THIEME LAB 1000

Präzisionssiebdruckmaschine mit automatischer Siebausrichtung und automatischer Substratausrichtung mittels CCD-Kamerasystemen

  • Zum Einsatz in der Produkt- und Prozessentwicklung
  • Für selektives Beschichten und funktionales Drucken von z.B. printed electronics, Solarzellen, RFID and organic electronics
  • Positionsgenauer Druck von Single- und Multilayerschichten
  • Kürzeste Rüstzeiten von Sieb, Substrat und Druckmedien
  • Einfache Parametervariation und sichere Parameterdokumentation
  • Thieme Qualität „Made in Germany“
THIEME LAB 1000 Siebdruckmaschine

Eckdaten

  • Präzisionssiebdruckmaschine mit einer Toleranz von +/- 15 μm
  • Automatische Siebausrichtung mittels CCD Kameras
  • Automatische Substratanpassung mittels CCD Kameras
  • Programmierbare Kamera-Software ermöglicht unterschiedliche Messmarken
  • Bewährtes Rakelsystem mit automatischer Druckregelung und selbstständiger Ausrichtung
  • Automatisierter Siebwechsel ohne Ausbau von Rakel oder Flutrakel
  • PLC Steuerung aller Druckparameter über Siemens Farb-Touch-Panel
  • Dokumentation und Download von Prozessparametern erleichtert das Erstellen von Statistiken

Video THIEME LAB 1000

Technische Daten

Druckformat

mm

400 x 400

600 x 620

Max. Bogenformat 

mm 420 x 800 620 x 620

Max. Siebrahmenformat

mm 850 x 800 1050 x 1000

Min. Siebrahmenformat

mm 300 x 240 300 x 240

Vakuumfeldgröße

mm 400 x 400 600 x 600

Max. Druckguthöhe

mm 20 20

Feinjustierung des Tisches Y-Y-X

mm +/- 8 +/- 8

Rakelgeschwindigkeit

mm/sec 50-1000 50-1000

Außenabmessungen (bxlxh)

mm

1685 x 1570 x 2200

2085 x 1770 x 2200

Gewicht

Kg 950 1050

Mech. Wiederholgenauigkeit

μm

+/- 15 +/- 15

Anschlusspannung

V 400/230 400/230

Anschlussleistung

kW 3,5 3,5

Verbrauch

A/V 6,5/400 6,5/400

Technische Angaben sind unverbindlich und Änderungen vorbehalten

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Standorte

THIEME GmbH & Co. KG
Robert-Bosch-Straße 1
79331 Teningen

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