THIEME LAB 1000

Präzisionssiebdruckmaschine mit automatischer Siebausrichtung und automatischer Substratausrichtung mittels CCD-Kamerasystemen

  • Zum Einsatz in der Produkt- und Prozessentwicklung
  • Für selektives Beschichten und funktionales Drucken von z.B. printed electronics, Solarzellen, RFID and organic electronics
  • Positionsgenauer Druck von Single- und Multilayerschichten
  • Kürzeste Rüstzeiten von Sieb, Substrat und Druckmedien
  • Einfache Parametervariation und sichere Parameterdokumentation
  • Thieme Qualität „Made in Germany“

 

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THIEME LAB 1000 Siebdruckmaschine

Eckdaten

  • Präzisionssiebdruckmaschine mit einer Toleranz von +/- 15 μm
  • Automatische Siebausrichtung mittels CCD Kameras
  • Automatische Substratanpassung mittels CCD Kameras
  • Programmierbare Kamera-Software ermöglicht unterschiedliche Messmarken
  • Bewährtes Rakelsystem mit automatischer Druckregelung und selbstständiger Ausrichtung
  • Automatisierter Siebwechsel ohne Ausbau von Rakel oder Flutrakel
  • PLC Steuerung aller Druckparameter über Siemens Farb-Touch-Panel
  • Dokumentation und Download von Prozessparametern erleichtert das Erstellen von Statistiken

 

Video THIEME LAB 1000

Technische Daten

Maschinentyp Druckformat
(mm)

Max. Druckguthöhe
(mm)

Max. Druckgeschwindigkeit*
(cycl./h)

THIEME LAB 1010 400 x 400 20 600

* Theoretische max. Maschinenleistung der Siebdruckmaschine
Technische Angaben sind unverbindlich und Änderungen vorbehalten

Standorte

THIEME GmbH & Co. KG
Robert-Bosch-Straße 1
79331 Teningen

Tel. +49 (0) 76 41 / 5 83-0
Fax +49 (0) 76 41 / 5 83-110
info@thieme.eu